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三星7LPP工藝是其首款使用極紫外（EUV）光刻的半導(dǎo)體工藝技術(shù)，與10nm FinFET相比，可大大降低復(fù)雜性，并提供更高的良率和更快的周轉(zhuǎn)時(shí)間。新思科技定制設(shè)計(jì)工具已針對(duì)三星7LPP相關(guān)要求進(jìn)行更新。此外，三星還將提供面向新思科技的工藝設(shè)計(jì)套件（PDK）和定制設(shè)計(jì)參考流程。
