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三星7LPP工藝是其首款使用極紫外（EUV）光刻的半導體工藝技術，與10nm FinFET相比，可大大降低復雜性，并提供更高的良率和更快的周轉時間。新思科技定制設計工具已針對三星7LPP相關要求進行更新。此外，三星還將提供面向新思科技的工藝設計套件（PDK）和定制設計參考流程。
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